鈣鈦礦(kuàng)鍍膜設(shè)備

簡要描(miáo)述(shù)：鈣鈦礦鍍(dù)膜設備(bèi)主要由有機/金(jīn)屬(shǔ)源蒸(zhēng)發(fā)沉(chén)積室(shì)，真空(kōng)排氣(qì)係統(tǒng)，真空測量係統，蒸發源(yuán)，樣品加(jiā)熱控溫，電(diàn)控係(xì)統，配(pèi)氣係統(tǒng)等(děng)部(bù)分組(zǔ)成(chéng)。

產(chǎn)品(pǐn)型號：
廠(chǎng)商(shāng)性質(zhì)：生產廠(chǎng)家(jiā)
更新日期：2026-07-03
訪問(wèn) 量(liáng)：2298

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產品介(jiè)紹：

鈣(gài)鈦礦(kuàng)鍍膜(mó)設(shè)備(bèi)主(zhǔ)要由(yóu)有(yǒu)機/金屬(shǔ)源(yuán)蒸(zhēng)發(fā)沉(chén)積室，真空排(pái)氣係(xì)統(tǒng)，真空測量(liáng)係(xì)統，蒸發源，樣(yàng)品(pǐn)加熱控溫，電控係統(tǒng)，配(pèi)氣(qì)係(xì)統等(děng)部分(fēn)組成。適(shì)用(yòng)於製(zhì)備(bèi)金屬單質(zhì)薄(báo)膜，半導(dǎo)體(tǐ)薄(báo)膜(mó)，氧化物薄(báo)膜，有機薄(báo)膜等，可(kě)用於科研單位進(jìn)行新材料，新(xīn)工藝薄膜(mó)研究工(gōng)作(zuò)，也可用(yòng)於大批量(liáng)生產前(qián)的(dí)試驗工(gōng)作(zuò)，廣(guǎng)泛應(yīng)用於(yú)有機，無(wú)機，鈣(gài)鈦礦薄(báo)膜太陽(yáng)能電池，OLED等研(yán)究領(lǐng)域。

功能(néng)特(tè)點

樣(yàng)品位(wèi)於真空室(shì)上(shàng)方，蒸發源位(wèi)於(yú)真(zhēn)空(kōng)室下(xià)方，向上(shàng)蒸(zhēng)發(fā)鍍膜，且蒸發源帶(dài)有(yǒu)擋(dǎng)板裝(zhuāng)置(zhì)。
設有(yǒu)烘烤(kǎo)加(jiā)熱(rè)功能，可(kě)在(zài)鍍(dù)膜過程(chéng)中加(jiā)熱(rè)樣(yàng)品(pǐn)，最(zuì)高烘烤加熱溫(wēn)度為180℃。
設(shè)有斷水(shuǐ)，斷(duàn)電連鎖保(bǎo)護報警裝置(zhì)及防誤操作保護報(bào)警裝置(zhì)。

技術參(cān)數(shù)
鍍(dù)膜室	不鏽鋼材料，采(cǎi)用(yòng)方(fāng)形(xíng)前後開門結(jié)構(gòu)，內帶有防汙板(bǎn)，腔室尺寸(cùn)約為600mm×450mm×450mm
真(zhēn)空排氣係統(tǒng)	采用分(fēn)子(zǐ)泵+機械(xiè)泵(bèng)係(xì)統
真空度	鍍膜室極(jí)限真(zhēn)空≤6×10-4Pa
係(xì)統漏率(shuài)	≤1×10-7Pa
蒸(zhēng)發(fā)源	安裝(zhuāng)在真空室(shì)的下(xià)底(dǐ)上(shàng)；有機(jī)蒸(zhēng)發(fā)源4個(gè)，容積5ml，2台蒸(zhēng)發(fā)電源，可(kě)測(cè)溫(wēn)，控(kòng)溫，加熱(rè)溫度(dù)400℃，功率0.5KW；無機蒸(zhēng)發(fā)源4套，容積5ml，2台蒸發電(diàn)源，加熱電流300A，功率3.2KW；蒸發源(yuán)擋板采用(yòng)自動磁(cí)力控製(zhì)方(fāng)式控製其開啟
樣(yàng)品架	安(ān)裝在真(zhēn)空室的上蓋上(shàng)，可(kě)放置(zhì)Ø120mm的樣品(pǐn)，載玻(bō)片(piàn)，旋轉(zhuǎn)速(sù)度0-30rpm
加(jiā)熱溫度	RT-180℃，測溫，控溫
膜厚(hòu)控(kòng)製(zhì)儀	石英晶振(zhèn)膜(mó)厚(hòu)控(kòng)製(zhì)儀，膜厚測量(liáng)範圍0-999999Å

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