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全自動(dòng)離(lí)子濺(jiàn)射儀

簡要描述:離子濺(jiàn)射(shè)儀(yí)的離(lí)子(zǐ)流的大(dà)小通過(guò)控製真空壓力(lì)實現,真(zhēn)空度越低,I越大,濺射速度越快(kuài),原(yuán)子(zǐ)結(jié)晶晶粒(lì)越(yuè)粗(cū),電(diàn)子轟(hōng)擊樣品(陽極)產生(shēng)的熱(rè)量(liáng)越高(gāo);真空度(dù)越高,I越(yuè)小,濺射(shè)速度越(yuè)慢(màn),原子(zǐ)結晶(jīng)晶(jīng)粒(lì)越細(xì)小,電(diàn)子轟擊樣品(pǐn)產生(shēng)的熱量小(xiǎo)。

  • 產品型號(hào):
  • 廠商(shāng)性質:生(shēng)產廠(chǎng)家
  • 更新(xīn)日期:2026-07-02
  • 訪  問(wèn)  量(liáng):3188
  全自動離(lí)子(zǐ)濺(jiàn)射儀(yí)工作原(yuán)理(lǐ):
 
  直(zhí)流冷(lěng)陰極(jí)二(èr)極管(guǎn)式(shì),靶材處(chǔ)於(yú)常溫,加負(fù)高壓(yā)1-3kv,陽極接地。當接通高壓,陰極發射電子(zǐ),電子(zǐ)能(néng)量(liáng)增加到1-3kev,轟擊低真(zhēn)空中(zhōng)(3-10pA)的氣體,使(shǐ)其(qí)電(diàn)離,激(jī)發(fā)出(chū)的電子(zǐ)在電(diàn)場中被加速(sù),繼(jì)續(xù)轟(hōng)擊(jī)氣體(tǐ),產(chǎn)生(shēng)聯級電離,形(xíng)成(chéng)等(děng)離(lí)子(zǐ)體(tǐ)。離(lí)子以1-3kev的能量轟(hōng)擊陰(yīn)極靶(bǎ),當其能(néng)量高於靶(bǎ)材原(yuán)子的結(jié)合能時,靶材(cái)原(yuán)子(zǐ)或(huò)者(zhě)原子簇,脫離(lí)靶(bǎ)材(cái),又(yòu)經過與等(děng)離(lí)子(zǐ)體中(zhōng)的(dí)殘(cán)餘(yú)氣(qì)體(tǐ)碰撞(zhuàng),因(yīn)此(cǐ)方(fāng)向(xiàng)各異(yì),當落在樣品(pǐn)表(biǎo)麵時,可(kě)以(yǐ)在粗(cū)糙的樣品表麵(miàn)形成厚度均一的金屬薄膜(mó),而(ér)且(qiě)與(yǔ)樣品的結合強(qiáng)度(dù)高。如果工作室中(zhōng)的(dí)氣體(tǐ)持續(xù)流動,保(bǎo)持(chí)恒(héng)定(dìng)壓力(lì),這時的(dí)離子(zǐ)流(liú)保持恒(héng)定。高(gāo)壓的功(gōng)率(shuài)決定(dìng)了(liǎo)最(zuì)大(dà)離子(zǐ)流(liú),一般(bān)有最(zuì)大(dà)離(lí)子(zǐ)流(liú)限(xiàn)製(zhì),用於(yú)保護高(gāo)壓電(diàn)源。
 
  全自動離(lí)子(zǐ)濺(jiàn)射(shè)儀的(dí)操作(zuò):
 
  一般工(gōng)作距離可(kě)調,距離越近,濺射(shè)速度越快,但(dàn)熱(rè)損(sǔn)傷會(huì)增(zēng)加。
 
  離(lí)子流的大(dà)小(xiǎo)通過(guò)控製真(zhēn)空(kōng)壓力(lì)實現(xiàn),真空度(dù)越(yuè)低,I越大(dà),濺射速度(dù)越快,原子(zǐ)結晶(jīng)晶(jīng)粒越粗,電子轟(hōng)擊樣(yàng)品(陽(yáng)極(jí))產(chǎn)生的熱量越(yuè)高(gāo);真空(kōng)度越(yuè)高,I越小,濺(jiàn)射速(sù)度(dù)越慢,原子結(jié)晶(jīng)晶粒越細(xì)小,電子轟擊樣品(pǐn)產生的(dí)熱量(liáng)小。
 
  加速電壓(yā)為固定,也有可(kě)調的,加速電(diàn)壓(yā)越高,對樣(yàng)品(pǐn)熱(rè)損傷越大。一般(bān)使用(yòng)金屬靶材的(dí)正(zhèng)比(bǐ)區(qū)域(yù)。
 
  有(yǒu)些熱(rè)敏樣(yàng)品(pǐn),需要對樣(yàng)品(pǐn)區進行冷卻(què),水(shuǐ)冷(lěng)或者(zhě)帕爾(ěr)貼冷卻(què);也(yě)可以采(cǎi)用磁控(kòng)裝置(zhì),像電(diàn)磁(cí)透鏡(jìng)一樣(yàng)把電子偏離樣品。經過(guò)這(zhè)樣(yàng)的(dí)改(gǎi)造,當然會增(zēng)加很高的成本。可以(yǐ)在(zài)石蠟表麵(miàn)濺(jiàn)射一層金屬(shǔ),而沒有(yǒu)任何(hé)損傷(shāng)!
 
  真空中的(dí)雜質越多(duō),鍍(dù)膜質量越差。一般黃金比(bǐ)較(jiào)穩(wěn)定,可以(yǐ)采用空(kōng)氣(qì)作為等(děng)離子氣源,而其他很多靶材(cái)則(zé)需(xū)要惰性氣體(tǐ)為好(hǎo)。
 
  氣體(tǐ)原子(zǐ)序(xù)數(shù)越高,動量越大,濺(jiàn)射(shè)越快,但(dàn)晶(jīng)粒(lì)會(huì)較(jiào)粗,連續成(chéng)膜(mó)的(dí)膜層較厚(hòu)。
 
  保(bǎo)持(chí)真空(kōng)室的潔(jié)淨(jìng)對(duì)高質(zhì)量的鍍(dù)膜(mó)有很(hěn)大(dà)好處(chǔ)。
 
  不(bù)要讓機械(xiè)真空泵長期保持極限(xiàn)真空,否(fǒu)則容易反(fǎn)油(yóu)。

全(quán)自動(dòng)離子(zǐ)濺射儀

 

 

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