操(cāo)作離子濺射儀(yí)時(shí)需(xū)要(yào)注意哪(nǎ)些問題？

　　離子濺(jiàn)射儀(yí)在樣品(pǐn)製備過程(chéng)中為SEM用(yòng)戶提(tí)供了更(gēng)廣泛(fàn)的選(xuǎn)擇，以滿足(zú)支撐(chēng)掃描電子(zǐ)顯微鏡所(suǒ)需的塗層(céng)要(yào)求(qiú)。在結構設計(jì)和(hé)人(rén)機界麵(miàn)方(fāng)麵，更(gēng)加注(zhù)重(zhòng)人(rén)性，簡(jiǎn)潔(jié)和智(zhì)能(néng)。同時，通過智(zhì)能人機(jī)界麵，控(kòng)製儀(yí)器簡單(dān)方(fāng)便(biàn)。同時，它(tā)可以(yǐ)實時估(gū)計塗層(céng)厚度(dù)，顯(xiǎn)示真(zhēn)空度和濺射(shè)電(diàn)流。





 

　　離(lí)子濺射儀的操作注意事項(xiàng)：
 
　　1，一般(bān)來說(shuō)，操(cāo)作距離可以(yǐ)調(tiáo)整。距離越(yuè)近(jìn)，濺(jiàn)射(shè)速度(dù)越快，但(dàn)熱(rè)損傷越(yuè)大(dà)。
 
　　2，在真(zhēn)空壓(yā)力下(xià)，離(lí)子(zǐ)流(liú)速(sù)越大，濺(jiàn)射速(sù)度(dù)越快，電(diàn)子(zǐ)轟擊(jī)樣品產(chǎn)生(shēng)的熱量(liáng)越(yuè)大(dà)，產生的(dí)熱量(liáng)就越(yuè)大，所產(chǎn)生的熱量也(yě)越(yuè)大，真空(kōng)度越低，I越(yuè)小，濺射速度就越(yuè)慢(màn)，原(yuán)子晶(jīng)粒(lì)越(yuè)細，電(diàn)子轟擊試樣產生(shēng)的熱(rè)量就會(huì)越小。
 
　　3，加速電(diàn)壓(yā)固(gù)定(dìng)且可(kě)調。加速電(diàn)壓(yā)越高(gāo)，樣(yàng)品的熱(rè)損(sǔn)失(shī)越大。通常(cháng)使用(yòng)金(jīn)屬靶(bǎ)的比例(lì)範圍。
 
　　4，一(yī)些熱敏樣品需(xū)要冷卻(què)，水冷(lěng)或珀爾帖(tiè)冷卻(què)，或者(zhě)可(kě)以使(shǐ)用(yòng)磁(cí)控(kòng)製設備像(xiàng)電(diàn)磁透(tòu)鏡(jìng)一樣從(cóng)樣品(pǐn)中分離電(diàn)子。當然(rán)，經過這種改(gǎi)造後(hòu)，將(jiāng)增加非常高的(dí)成本，但(dàn)可(kě)以濺(jiàn)到蠟(là)表(biǎo)麵上的(dí)金屬層不(bù)會(huì)造成任何損(sǔn)壞(huài)！相(xiāng)比之下，高(gāo)成本可以(yǐ)帶來很多好(hǎo)處(chǔ)。
 
　　5，真空中雜質越多，塗層質(zhì)量越差(chà)。一般來說，金是相對(duì)穩(wěn)定(dìng)的，可以使用空氣作為(wéi)等(děng)離(lí)子氣源(yuán)，而許多(duō)其他靶需要(yào)惰性氣體(tǐ)。
 
　　6，隨著氣體原子序數的增加(jiā)，動(dòng)量(liáng)增加，濺射速(sù)度增加，但晶粒會(huì)變(biàn)厚(hòu)，連(lián)續膜(mó)會(huì)變厚。
 
　　7，真(zhēn)空室的清潔對高(gāo)質(zhì)量塗(tú)層非(fēi)常有利(lì)。
 
　　8，機械(xiè)真(zhēn)空泵(bèng)不(bù)允許長時間保持真空(kōng)極限，否則容(róng)易倒油(yóu)。
 
　　9，使(shǐ)用離子濺射儀(yí)器時(shí)，應(yīng)特別(bié)注(zhù)意(yì)以上(shàng)8點，保(bǎo)護(hù)儀器並盡可能延長其(qí)使用壽命。